蓬佩奥叫嚣"台湾非中国一部分"，令美台双方都为难

虽然当前5G工业模组的价格相比于4G模组，蓬佩还处于偏高的水平。但是我们看到，蓬佩一方面随着5G首发行业应用场景的价值显现与商业闭环，将持续推动5G工业模组的丰富；另一方面在规模效应下，5G工业模组的成本也必将大幅度降低，进一步推动行业应用。

奥叫来源：FX168FX168财经报社（北美）讯 因对新冠疫情挥之不去的的担忧抵消了美国未来几周出台经济刺激计划的希望，嚣台欧股周一（10月19日）全线收低。

泛欧斯托克600指数收盘下跌1.04点，湾非为难跌幅0.28%，报366.44点。其中化工类股领跌，跌幅0.9%，金融服务类股上涨1%；德国DAX30指数收盘下跌54.33点，中国跌幅0.42%，报12854.66点；英国富时100指数收盘下跌34.93点，分方都跌幅0.59%，报5884.65点；

法国CAC40指数收盘下跌5.88点，令美跌幅0.12%，报4929.98点；欧洲斯托克50指数收盘下跌4.02点，台双跌幅0.12%，报3241.45点；

西班牙IBEX35指数收盘上涨3.30点，蓬佩涨幅0.05%，报6853.00点；

意大利富时MIB指数收盘下跌15.47点，奥叫跌幅0.08%，报19374.21点。首先是曝光光源的更新换代。从最初的436纳米波长光源，嚣台到DUV（深紫外）所用的248纳米和193纳米波长，嚣台再到目前最顶级的EUV（极紫外）13.5纳米波长，光源波长不断缩小，曝光能够获得的分辨率自然不断提高。如果从使用光源来看，光刻机的发展主要经历了5代，类似于一个面条机从1.0到5.0的版本。

湾非为难光刻机主要发展历程中国再就是光学系统结构的演进。

20世纪六七十年代，分方都接触式光刻机是集成电路制造的主流设备。这种机器曝光过程中掩膜版与硅片上的光刻胶直接接触，分方都优点是可以减小光的衍射效应，缺点是会污染损坏掩膜版和光刻胶，缩短掩膜版使用寿命，且极易形成图形缺陷，影响良率。为了解决上述问题，令美20世纪70年代开始采用接近式光刻机。这种光刻机在掩膜版和硅片之间有微小间距，令美由于掩膜版和硅片间距越小，光刻工艺的分辨率越高，当二者间距接近几十微米时，就很难再减小，而且会受衍射效应的影响。